9月15日下午，应物理与电子工程学院和河南省磁电信息功能材料重点实验室邀请，上海电力大学刘勇教授和浙江大学匡翠方教授分别作了题为“光场调控技术”及“超分辨激光直写光刻技术”的学术报告。报告会采用腾讯会议方式进行，会议由院长杨坤主持，物理与电子工程学院相关专业教师及研究生参加了此次报告。
刘勇教授为上海电力大学教授，硕士生导师，之江实验室智能感知研究院高级访问学者。多年来一直从事共聚焦显微术、光学相干层析术、超分辨光学显微术、以及三维温度场测量和电力传感研究。报告会上刘勇教授详细介绍了采用微球、像差、偏振、相位、振幅等多种调制手段对光场进行调控的新方法和新技术，通过构造个性化光场，为超分辨成像提供了重要基础。
匡翠方教授为国家杰出青年基金获得者，之江实验室外部专家，浙江省“万人计划”科技创新领军人才，主要从事超分辨显微成像与光刻新原理、新仪器的创新研究，并以第一/通讯作者在Nature Communications, Physical Review Letters等SCI论文 140多篇。匡教授以三维微纳加工与刻写技术为出发点，围绕双光子激光直写技术相关的高速、超分辨和复杂大面积刻写等需求，系统介绍了基于边缘光抑制技术的超分辨焦斑调制、多束并行激光直写、光束高精度稳定等关键技术，为解决我国在微纳制造方面存在的技术瓶颈提供了一种新途径与新手段。
报告会上，刘勇教授和匡翠方教授与参会师生进行了深入的交流和探讨，针对师生提出的问题，给予了耐心细致的解答。本次学术报告使师生对光场调控及超分辨激光直写等技术有了全面深入的了解，拓展了科研视野，激发了投身科研的兴趣和热情。